装置の紹介[NPF]

【NPF093】高速電子ビーム描画装置(エリオニクス)


名称 【NPF093】高速電子ビーム描画装置(エリオニクス)
メーカー
導入年月日
仕様 本装置は細く絞った電子ビームをレジストを塗布した基板に照射し、微細な露光パターンを形成するための装置です。加速電圧が130kVであるため非常に微細なパターン(5 nm)を描画することができます。クロック周波数が100 MHzであるため、高速描画が可能です。描画エリアは8インチサイズですが、12インチウエハーをセットすることが可能です。

・型式:LS-F130AN
・試料サイズ:~12インチφ、9インチ□のマスクブランクス
・電子銃:ZrO/W熱電界放射型
・加速電圧:130kV, 100kV, 50kV, 25kV
・最小ビーム径:1.7nm (@ 130kV)
・最小描画線幅:5nm (@ 130kV)
・最大スキャンクロック:100MHz
・ビーム電流強度:5pA~100nA
・フィールドサイズ:100μm □、250μm□、500μm□、1000μm□(100kV以下)、1500μm□(50kV以下)、3000μm□ (25kV以下)
・ビームポジション:1,000,000×1,000,000 (20bit DAC)
・位置決め分解能:0.1nm
・つなぎ精度:±10nm
・重ねあわせ精度:±15nm
・描画可能エリア:210mm×210mm

関連画像

線幅100nm、ピッチ200nm

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SEM画像(帯電防止 Wコート)

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電子線露光

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線幅200nm、ピッチ400nm

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線幅300nm、ピッチ600nm

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SOGエッチング

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線幅200nm、ピッチ400nm

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SOCエッチング

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