装置の紹介[NPF]

【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC)


名称 【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC)
メーカー クレステック
導入年月日
仕様 細く絞った電子線を感光性レジストを塗布した試料表面に照射し、現像処理によって微細パターンを形成(描画)するための装置です。試料は最大6インチ基板まで扱えます。電子線走査範囲は一辺が100 μm~1 mmの正方形で、描画方式により若干異なりますが、画素数を4000~60000ドットの範囲内から選択できます。

・型式:CABL-9410TFNA
・試料サイズ:6インチφ×4.6 mm(高さ)
・電子銃:熱電界放射型ZrO/Wエミッタ
・最小スポット:2 nmφ(加速電圧50 kV)
・描画可能な最小線幅:10 nm(レジスト膜厚100 nm)
・走査方式:ベクター走査、ラスター走査
・走査領域:最大1 mm□
・つなぎ合わせ描画領域:最大150 mm□
・つなぎ合わせ精度:50 nm以下
・重ね合わせ精度:50 nm以下
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