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概要

物質・材料研究機構、産業技術総合研究所、東京工業大学、北海道大学は、令和3年度からスタートした文部科学省委託事業である「マテリアル先端リサーチインフラ事業」の一環として、オンラインによる技術セミナー『電子ビーム・レーザー描画技術~グレースケール露光による3次元構造物の作製~』を2023年1月25日(水)に開催いたします。電子ビーム・レーザーリソグラフィの基本概念や近接効果補正による描画データ最適化の講演に加え、3次元構造物の作製事例についてもご紹介いたします。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしております。

また、本セミナーではエリオニクス社製の電子ビーム描画装置(ELS-BODEN100)やハイデルベルグ・インストルメンツ 社製のレーザー描画装置(DWL66+)を使ったリソグラフィー実習コースをご用意致しました。オンラインセミナーへの参加が条件となりますが、実習コースについてもご参加をお待ちしております。

セミナー

【日時】

2023年1月25日(水)13:30~15:30

【ウェビナー配信】

Microsoft Teamsによるオンライン

【参加費】
無料
【定員】
100名(先着順、参加登録をお願いします)
【セミナー案内】
https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2022-2/
【登録】
参加申込ページから行って下さい。

電子ビーム・レーザー描画実習コース

【日時】

2023年1月26日(木)10:00~17:00

【場所】

① 電子ビーム描画実習コース:物質・材料研究機構 並木地区 MANA棟507室(クリーンルーム)
② レーザー描画実習コース:物質・材料研究機構 千現地区 材料信頼性実験棟102室(クリーンルーム)

【参加費】
無料
【定員】
各コース3名
【実習の概要】
■電子ビーム描画実習コース
エリオニクス社製の電子ビーム描画装置(ELS-BODEN100)を使ったグレースケール露光による3次元構造パターンの作製について実習いたします。レジスト感度曲線の取得からBEAMER(GenISys社製)による描画データの補正方法を実習し、実際に3次元構造パターン(回折光学素子(DOE)など)を作製いたします。

■レーザー描画実習コース
ハイデルベルグ・インストルメンツ社製のレーザー描画装置(DWL 66+)を使ったグレースケール露光による3次元構造パターンの作製について実習いたします。レジスト感度曲線の取得からBEAMER(GenISys社製)による描画データの補正方法を実習し、実際に3次元構造パターン(マイクロレンズアレイなど)を作製いたします。

主催・共催・協賛

【主催】
物質・材料研究機構 ARIMインフラ共用チーム
【主催】
産業技術総合研究所TIA推進センター
ナノプロセシング施設(NPF)
【主催】
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【主催】
北海道大学 創成研究機構 ナノテクノロジー連携研究推進室
【共催】
GenISys株式会社
【共催】
Bush Clover株式会社
【共催】
TIA
【協賛】
TSCナノエレクトロニクス計測分析技術研究会

お問い合わせ

第2回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー事務局

e-mail:NIF-office@nims.go.jp