産業技術総合研究所、東京科学大学、物質・材料研究機構、北海道大学は、2021年度からスタートした文部科学省委託事業である「マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM)」の一環として、『電子線・光リソグラフィ技術』と題して技術セミナーを2025年 2月25日（水）にハイブリッド開催いたします。マスクレスリソグラフィ技術の解説に加え、フォトマスクを用いてナノメートルスケール描画を実現するリソグラフィ技術、各機関の共用施設のリソグラフィに関わる事例等を紹介いたします。産学官いずれのご所属の方々の奮ってのご参加をお待ちしております。
2025年度 第2回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー
電子線・光リソグラフィ技術
概要
講演
- 【日時】
- 2026年2月25日（水）12:55～16:40
- 【オンサイト会場】
- 産業技術総合研究所つくば中央2-12棟第6会議室
http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
- 【オンライン】
-
Microsoft Teamsによるウェビナー配信
（参加申込者へ別途URLをお送りいたします。）
- 【定員】
-
オンサイト：80 名、オンライン：200名
(先着順、参加登録をお願いします)
- 【参加費】
- 無料
- 【連絡先メールアドレス】
- tia-npf-school2@aist.go.jp
主催・共催
- 【主催】 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF）
- 【共催】
- 物質・材料研究機構微細加工ユニット
- 【共催】
- 東京科学大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
- 【共催】
- 北海道大学電子科学研究所
お問い合わせ
e-mail：tia-npf-school2@aist.go.jp