ARIM事業では、設備共用に伴って創出されるマテリアルデータを構造化し、第三者へ利活用しやすい形で収集・蓄積およびデータ共用を行っています。2025年9月30日から、蓄積されたデータの共用サービスが開始されました。利用できるデータの概要は、「ARIMデータポータル」サイトにて、どなたでも検索・閲覧可能ですので、是非ご覧いただければと思います。
ARIMデータポータル：https://nanonet.go.jp/data_service/

Phableシリーズ露光装置は、タルボ（Talbot）効果を利用した露光装置で、 マスクデザイン次第で様々なパターンの露光は可能ですが、特に周期的なパターンの露光に特化しています。タルボ効果とは　回折格子など周期的な構造パターンを単色光が通過するときに特定距離（タルボ距離）に置いてその構造物と同じパターンの自己像が再現される現象です。DTL（Displacement Talbot Lithography）露光方式により、マスク上のパターンピッチの半分のピッチ（L/Sの場合）を基板上に露光可能です。主なアプリケーションとして、AR/VRなどのウェーブガイド、半導体レーザー（DFB, VCSELなど）のグレーチングパターン、など周期的パターンを持つ製品です。Phableシリーズの光源はUVかDUVを選択可能で、L/Sパターンの場合、線幅はUV光源で125 nm～、DUV光源で65 nm～が可能です。

ハイデルベルグ社製のマスクレス露光装置 MLA150（少量生産向けのマスクレスアライナー） および DWL66+（高解像度の直接描画パターンジェネレータ） について、その概要と最新動向をご紹介いたします。

（株）ナノシステムソリューションズは、2000年にマスクレス露光装置の基本特許を、前身である（株）ニュークリエーションと産総研様と共に提案し、翌年の2001年に「マスクレス任意パターン転写装置」をNPF様に納入させて頂きました。その後2004年に産総研技術移転企業の認定を受け（株）ナノシステムソリューションズを設立させました。老舗メーカである当社のマスクレス露光装置をご案内させて頂きます。