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装置の紹介[ANCF]

極端紫外光光電子分光装置


名称 極端紫外光光電子分光装置
メーカー 産総研自主開発
導入年月日 2013-04-01
仕様  レーザー生成プラズマを用いて生成したパルスEUV光を試料に照射した際に放出される光電子のエネルギーを計測することにより、試料最表面(0.5 nm程度)の電子状態を分析する装置。
 絶縁物、導体表面からの光電子のエネルギースペクトルのシフトから、試料表面の汚染状態を評価する、世界で唯一の表面分析装置。

・励起光波長:4.86 nm
・励起光ビーム径:50 μm ~100 μm
・光電子エネルギー分解能:~0.3 eV
・深さ感度(光電子の脱出深さ):0.5 nm(実測)
・光子フラックス(試料上時間平均):SR同等
・瞬時キャリア密度:1017/cm3
・EUV光子エネルギー:255.17 eV
・EUVパルス幅:3 nsec
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