参加お申し込み方法

【申込期間】
令和3年2月19日(金)17時迄 随時受け付けます。
ただし、定員に達し次第締め切らせていただきます。
【申込方法】
メールを送信してお申し込みください。
【メールの宛先】
※定員に達したため、締め切りました。
【メールの件名】
『電子ビームリソグラフィセミナーⅥ(オンライン) ~電子ビーム露光とレーザービーム描画によるグレースケール露光~』参加申込

参加申込メールの宛先を間違えて送信された場合は受付手続きができませんのでご注意ください。

※参加申込後1週間以内に「申込受付」のメールをご返信いたします(もし届かない場合はご一報ください)。

参加申込メール本文の記載事項

  1. 【1】氏名

  2. 【2】ふりがな

  3. 【3】所属機関名

  4. 【4】連絡先電話番号

  5. 【5】電子メールアドレス

  6. 【6】本セミナーに対する希望

  7. 【7】本セミナーをどこで知りましたか?下記の選択肢からご選択ください。(任意)
    1. 1.ナノプロセシング施設からの配信メール
    2. 2.NPFシステムトップページ
    3. 3.メールマガジン(メールマガジン名:   )
    4. 4.TIAのウェブサイト
    5. 5.ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)のウェブサイト
    6. 6.上記以外のウェブサイト(ウェブサイト名:   )
    7. 7.産総研イントラの掲示
    8. 8. 知人からの紹介
      1. a. 社内
      2. b. 社外
      3. c. 産総研
      4. d. その他(   )
    9. 9.その他(   )
  8. 【8】その他連絡事項