装置の紹介[NPF]
【NPF115】大面積電子ビーム描画装置[BODEN50]
名称 | 【NPF115】大面積電子ビーム描画装置[BODEN50] |
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メーカー | ELIONIX |
導入年月日 | 2024-03-26 |
仕様 | 本装置は、レジストを塗布した基板に細く絞った電子ビームを照射し、微細なレジストパターンを形成する装置です。加速電圧が 50 kVであり、最小描画線幅は20nmです。大電流かつ狭ピッチでの描画が可能となり、より高速で高品質な描画を実現します。 ・型式: ELS-BOEDEN50 ・ 試料ホルダーの種類 ・8 インチ ・マルチウェハ(ピンの位置設定で変更) ・小片 ・10mmΦ 最大試料サイズは、8インチ。 ・電子銃: ZrO/W熱電界放射型 ・加速電圧: 50kV ・最小ビーム径: 2.8 nm ・最大スキャンクロック: 100 MHz ・ショットピッチ: 1 nm ・ビーム電流強度: 1nA~800nA ・フィールドサイズ: 1000μm□、100μm□ 、250μm□、500μm□、1500μm□ ・つなぎ精度: □1000µm フィールド …±30nm 以内 ・重ねあわせ精度:±30nm ・描画可能エリア: 210 mm x 210 mm ・ソフトウェア elms ビーム調整機能、描画スケジュール機能、パターンデータ変換機能 オーバーヘッドタイムを省いた「高速モード」あり |
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