装置の紹介[NPF]

【NPF115】大面積電子ビーム描画装置[BODEN50]


名称 【NPF115】大面積電子ビーム描画装置[BODEN50]
メーカー ELIONIX
導入年月日 2024-03-26
仕様 本装置は、レジストを塗布した基板に細く絞った電子ビームを照射し、微細なレジストパターンを形成する装置です。加速電圧が 50 kVであり、最小描画線幅は20nmです。大電流かつ狭ピッチでの描画が可能となり、より高速で高品質な描画を実現します。

・型式: ELS-BOEDEN50
・ 試料ホルダーの種類
・8 インチ
・マルチウェハ(ピンの位置設定で変更)
・小片
・10mmΦ
 最大試料サイズは、8インチ。
・電子銃: ZrO/W熱電界放射型
・加速電圧:  50kV
・最小ビーム径: 2.8 nm
・最大スキャンクロック: 100 MHz
・ショットピッチ: 1 nm
・ビーム電流強度: 1nA~800nA
・フィールドサイズ:
1000μm□、100μm□ 、250μm□、500μm□、1500μm□
・つなぎ精度:
□1000µm フィールド …±30nm 以内
・重ねあわせ精度:±30nm
・描画可能エリア: 210 mm x 210 mm
・ソフトウェア elms
  ビーム調整機能、描画スケジュール機能、パターンデータ変換機能
  オーバーヘッドタイムを省いた「高速モード」あり

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細線パターン

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