装置の紹介[NPF]

【NPF115】大面積電子ビーム描画装置[BODEN50]

名称	【NPF115】大面積電子ビーム描画装置[BODEN50]
メーカー	ELIONIX
導入年月日	2024-03-26
仕様	本装置は、レジストを塗布した基板に細く絞った電子ビームを照射し、微細なレジストパターンを形成する装置です。加速電圧が 50 kVであり、最小描画線幅は20nmです。大電流かつ狭ピッチでの描画が可能となり、より高速で高品質な描画を実現します。・型式: ELS-BOEDEN50 ・試料ホルダーの種類・8 インチ・マルチウェハ（ピンの位置設定で変更）・小片・10mmΦ 　最大試料サイズは、８インチ。・電子銃:　ZrO/W熱電界放射型・加速電圧:　 50kV ・最小ビーム径:　2.8 nm ・最大スキャンクロック:　100 MHz ・ショットピッチ：　1 nm ・ビーム電流強度: 1nA～800nA ・フィールドサイズ: 1000μm□、100μm□ 、250μm□、500μm□、1500μm□ ・つなぎ精度: □1000µm フィールド …±30nm 以内・重ねあわせ精度:±30nm ・描画可能エリア: 210 mm x 210 mm ・ソフトウェア　elms 　　ビーム調整機能、描画スケジュール機能、パターンデータ変換機能　　オーバーヘッドタイムを省いた「高速モード」あり