NPF:ナノプロセシング施設
本文へ移動する
メニュー
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
ナノプロセシング施設
装置の紹介
ご利用手順
各種資料
アクセス方法
お問い合わせ
メニュー
閉じる
ナノプロセシング施設
装置の紹介
ご利用手順
各種資料
アクセス方法
お問い合わせ
サブメニュー
質問集
プライバシーポリシー
リンク集
産総研ARIMポータルへ
NPFホーム
ポータルサイトに戻る
ホーム
>
装置の紹介[NPF]
ログイン/マイページ
装置の紹介[NPF]
【NPF117】多機能型薄膜X線回折装置(XRD)
名称
【NPF117】多機能型薄膜X線回折装置(XRD)
メーカー
PANalytical
導入年月日
2025-04-01
仕様
試料サイズ:最大100mmφ
試料ステージ:垂直型(In-Plane時水平)
試料形態:薄膜
測定:2θ/θ、2θ/ω、in-plane2θχ/φ、ロッキングカーブ測定、極点図測定、反射率測定、逆格子空間マッピング測定、高温測定(~1100℃)