装置の紹介[NPF]

【NPF011】i線露光装置


名称 【NPF011】i線露光装置
メーカー ニコンテック
導入年月日
仕様 この装置は、最大開口数(N.A.)0.63の投影レンズを搭載し、解像度350 nm以下に対応したi線縮小投影型露光装置です。照明アパーチャはコンベンショナルタイプの他に、限界解像度と焦点深度を向上させる変形照明(輪帯照明、四重極)も選択できます。投影レンズはN.A.可変システムを採用しており、0.50~0.63の間で最適なN.A.を選択することが可能です。そのほか特殊ステージを備えており2インチ~8インチウェハーおよび20mm□、18mm□、15mm□、10mm□のクーポンチップの露光が可能です。また、透明基板のセットも可能です。

・形式  :NSR-2205i12D
・試料サイズ:2インチφ, 3インチφ, 4インチφ, 6インチφ, 8インチφ(全てOFのみ可)
       20mm, 18mm, 15mm, 10mm□クーポン(厚200~750μm程度まで)
・露光光源:i線(波長365nm)
・解像度 :350nm以下
・最大N.A.:0.63
・縮小倍率:5分の1倍
・露光範囲:22mm▢(ウェハー上)
・レチクル:6インチ石英ガラス(6025)
・総合アライメント精度:55nm以下

主な薬液類
・レジスト:住友化学 PFI-38A7, 住友化学 PFI-89B4, 日本化薬LORシリーズ
・現像液 :多摩化学 TMAH 2.38%

関連画像

ポジ型レジストパターンのSEM像

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ネガ型レジストパターンのSEM像

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厚膜ポジレジストの光学写真

厚膜ポジレジストの光学写真

0.3μm L&Sパターン

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0.3μm ホールパターン

0.3μm ホールパターン

0.4μm ホールパターン

0.4μm ホールパターン

Ti 200nm EB蒸着

Ti 200nm EB蒸着

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0.3μm ホールパターン

0.3μm ホールパターン

0.3μm L&Sパターン

0.3μm L&Sパターン

0.4μm ホールパターン

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Ti 200nm EB蒸着

Ti 200nm EB蒸着

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