装置の紹介[NPF]

【NPF024】抵抗加熱型真空蒸着装置


名称 【NPF024】抵抗加熱型真空蒸着装置
メーカー ビームトロン
導入年月日
仕様 ボート等の抵抗体に金属や化合物などの成膜材料をセットし、通電加熱で蒸発させることにより、材料を基板上に成膜します。3種類の材料がセット可能なので多層膜の成膜も可能です。全て手動操作。高融点材料の成膜では、ソースからの輻射の影響が多くなり、条件によっては試料表面が100 ℃を超えるので注意を要します。

・型式:KIS_3
・試料サイズ:3インチφ以下
・蒸着方式:抵抗加熱蒸発
・蒸発源:3ポート
・加熱抵抗体:平板ボート、コイル、バスケット
・傾斜基板ホルダ:±15°
・蒸発源―基板間:250 mm
・試料導入:手動
・真空排気:手動、到達圧力5×10^-5 Pa以下
・成膜制御:手動( 基板シャッター開閉及びヒーター電力調整)
・膜厚モニター:水晶振動子膜厚モニタ付
・ソース材料: Al, Ag, Au, Fe, Ni, Cr, Cu, Ti
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